Novi američki zakon usmeren na smanjenje tehnoloških mogućnosti Kine
Newsmax Balkans pre 3 dana | Ivan Trajković
Novi predlog zakona, kojeg administracija u Vašingtonu naziva "MATCH Act" mogao bi značajno da utiče na globalnu industriju čipova, te da dodatno zaoštri tehnološki sukob između SAD i Kine.
Novi zakon u Vašingtonu ima za cilj da proširi postojeće restrikcije izvoza celokupne napredne opreme za proizvodnju čipova, zatvarajući regulatorne praznine koje su do sada omogućavale Kini pristup određenim visokim tehnologijama zapadnih kompanija. Za razliku od ranijih mera koje su se fokusirale na najnaprednije "EUV" litografske mašine, novi " MATCH Act" bi obuhvatio i stariju, ali i dalje ključnu "DUV" opremu. Sama tehnologija poznata kao "Deep Ultraviolet"
