Kina napravila 5 nm čipove bez EUV litografije, postignuto “nemoguće” uprkos sankcijama
Benchmark 25.04.2025 | Ivan Mančić
Kina je uspela ono što su mnogi smatrali nemogućim: proizvela je 5 nm čipove bez korišćenja ekstremno ultraljubičaste (EUV) litografije, ključne tehnologije u modernoj proizvodnji naprednih procesora.
Prema navodima Willijama Hua, predstavnika Intela u Pekingu, kineska kompanija SMIC (Semiconductor Manufacturing International Corporation) postigla je ovaj podvig uz pomoć naprednih tehnika duboke UV litografije (DUV), poput Self-Aligned Quadruple Patterning (SAQP). Na mreži X (bivši Twitter), Huo je izjavio: „Kina je napravila 5nm čipove bez EUV. Nema ASML-a. Nema Nikon-a. Samo DUV, pametan inženjering i industrijska volja.“ Nazvao je rezultat “Murov zakon na
