Кина направила 5 нм чипове без ЕУВ литографије, постигнуто “немогуће” упркос санкцијама
Бенцхмарк 25.04.2025 | Иван Манчић
Кина је успела оно што су многи сматрали немогућим: произвела је 5 нм чипове без коришћења екстремно ултраљубичасте (ЕУВ) литографије, кључне технологије у модерној производњи напредних процесора.
Према наводима Виллијама Хуа, представника Интела у Пекингу, кинеска компанија СМИЦ (Семицондуцтор Мануфацтуринг Интернатионал Цорпоратион) постигла је овај подвиг уз помоћ напредних техника дубоке УВ литографије (ДУВ), попут Селф-Алигнед Qуадрупле Паттернинг (САQП). На мрежи КС (бивши Твиттер), Хуо је изјавио: „Кина је направила 5нм чипове без ЕУВ. Нема АСМЛ-а. Нема Никон-а. Само ДУВ, паметан инжењеринг и индустријска воља.“ Назвао је резултат “Муров закон на
