Japan na ivici revolucije u proizvodnji čipova koristeći EUV litografiju
Benchmark 08.08.2024 | Aleksandar Božović
Institut za nauku i tehnologiju Okinava (OIST) dizajnirao je novu vrstu ekstremno ultraljubičaste (EUV) litografije koja bi mogla značajno smanjiti troškove proizvodnje poluprovodnika od 7 nm i manjih, čime bi se praktično unela revolucija u lancu snabdevanja u proizvodnji čipova.
Prema izveštajima, optički sistem EUV opreme je u velikoj meri pojednostavljen dok je potrošnja energije smanjena za deset puta, što otvara mogućnost mnogo jeftinijih mašina za naprednu proizvodnju čipova. Nova tehnologija mogla bi označiti kraj monopola kompanije ASML na EUV litografiju, što bi imalo ozbiljne implikacije za proizvođače poluprovodnika, investitore i vlade. Podsećamo da američke sankcije zabranjuju prodaju EUV litografske opreme Kini, što kineskim
