Хуавеи креће у револуцију Нови чип без забрањене технологије!
Ало 02.06.2025
Хуавеи је започео развој праве 5 нм производне линије без коришћења ЕУВ (Екстреме Ултравиолет) литографских машина.
ЕУВ је технологија коју је патентирала холандска компанија АСМЛ, и која је под забраном извоза у Кину. Према писању портала УДН, кинески технолошки гигант користи алтернативу ССА800, литографске машине компаније Схангхаи Мицро Елецтроницс, у комбинацији са техником вишеструког узорковања (мулти-паттернинг). Осим тога, наводи се да Хуавеи и његов главни партнер у производњи чипова, СМИЦ, већ раде на 3 нм технологији, преноси портал Буг. Истраживање се одвија у
