Kineska industrija napreduje krupnim koracima, na korak su od proizvodnje 3 nm čipova zahvaljujući dostignuću na polju DUV lasera
Benchmark pre 22 dana | Aleksandar Božović
Kineska akademija nauka (CAS) je postigla značajan napredak u razvoju Solid State DUV (Deep Ultraviolet) laserskog sistema, koji može emitovati koherentno svetlosti talasne dužine od 193 nm.
Ova tehnologija potencijalno omogućava proizvodnju čipova u naprednom 3 nm procesu, što predstavlja veliki korak ka tehnološkoj samostalnosti Kine u industriji proizvodnje čipova. Ključne karakteristike nove tehnologije: Dvostruki optički put za konverziju talasne dužine: Konačna talasna dužina od 193nm dobijena kroz LBO kristal Prednosti u odnosu na tradicionalne excimer lasere: Ukoliko bi se ova tehnologija mogla skalirati, mogla bi poslužiti kao osnova za
