Kina ide napred: uspela da napravi 7 nm čipove bez EUV litografskih mašina
Benchmark 19.09.2023 | Sara Smolović
Uprkos tehnološkim sankcijama SAD, Kina ide napred krupnim koracima u industriji poluprovodnika – uspela je da ostvari veliko dostignuće i napravi 7 nm čipove bez EUV litografskih mašina.
EUV mašine su zasnovane na tehnologiji ekstremne ultraljubičaste litografije i koriste se za proizvodnju integrisanih kola u poluprovodničkim uređajima. Nasuprot njima postoje procesne DUV mašine (duboko ultraljubičasta litografija) koje povećavaju troškove proizvodnje i koriste svetlost od 193 nanometra, dok EUV koristi 13,5 nm. Upravo je DUV mašine koristila poluprovodnička industrija je za proizvodnju 14 nm čipova. Da se nisu pojavile EUV mašine pre osam godina,
